SiC 超级结(Super Junction)工艺技术全解析
概述
SiC(碳化硅)超级结技术是当前功率半导体领域的重要发展方向。
超级结结构原理
超级结(Super Junction)结构通过交替排列的 P 型和 N 型柱状结构,实现了突破硅材料极限的导通电阻。
工艺技术要点
1. 外延生长技术
SiC 外延生长是超级结制造的核心工艺。
2. 刻蚀工艺
深槽刻蚀是形成柱状结构的关键步骤。
应用前景
SiC 超级结器件在新能源汽车、光伏逆变器等领域有广阔应用前景。
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SiC(碳化硅)超级结技术是当前功率半导体领域的重要发展方向。
超级结(Super Junction)结构通过交替排列的 P 型和 N 型柱状结构,实现了突破硅材料极限的导通电阻。
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深槽刻蚀是形成柱状结构的关键步骤。
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